반도체 공정 시뮬레이션과
검사·계측을 AI로 고도화합니다
넥스트엠아이는 물리정보 AI와 제조 이미지 AI를 활용하여 반도체 공정개발과 검사 과정에서 반복되는 분석과 셋업 부담을 줄이는 소프트웨어 기업입니다.
- 공정조건 탐색·시뮬레이션 가속
- 검사 이미지 분석·전처리 자동화
- 패턴 정렬·세그멘테이션·컨투어 추출
- 반복적인 분석 셋업 부담 완화
반복되는 셋업과 분석,
반도체 현장의 병목을 풀어냅니다
-
반도체 제품과 공정조건이 변경될 때마다 공정 시뮬레이션과 조건 탐색을 반복해야 합니다
-
장비, 레이어 및 촬영조건이 달라질 때마다 검사 이미지의 정렬과 분석 조건을 다시 설정해야 합니다
-
SEM, 광학, X-Ray 등 검사 이미지의 노이즈와 품질 차이로 인해 분석 정확도가 저하됩니다
-
제조데이터의 보안성과 라벨링 비용으로 인해 학습·검증 데이터 구축이 어렵습니다
-
엔지니어가 이미지 보정, 패턴 정렬, 컨투어 추출 및 결함 판독을 반복적으로 수행해야 합니다
두 개의 엔진이 공정개발과 검사를 바꿉니다
NeuroSim-Litho와 NeuroGauge-Semi는 독립적으로 사용할 수 있으며, 공정 시뮬레이션 정보와 검사 이미지 분석을 연결하여 활용할 수도 있습니다.
NeuroGauge-Semi
반도체 및 패키징 검사 이미지를 분석하여 이미지 품질 개선, 패턴 정렬, 영역 분리, 계측 및 이상 후보 탐지를 지원하는 Vision AI 솔루션입니다.
- 검사 이미지 복원 및 노이즈 제거
- SEM-Mask Layout 및 Die-layout 패턴 정렬
- 패턴 세그멘테이션 및 컨투어 추출
- CD, LER, LWR 등 치수 계측 지원
NeuroGauge Inference Hub — 배치 세그멘테이션 추론
NeuroSim-Litho
리소그래피 공정조건에 따른 패턴 형상과 공정 결과를 빠르게 예측하고, 조건 탐색을 지원하는 물리정보 AI 기반 공정 시뮬레이션 솔루션입니다.
- Focus, dose 등 조건 변화에 따른 패턴 예측
- 공정조건 일괄 분석 및 process window 도출
- 최적 공정조건 후보 제시
- 검사·계측 AI 학습용 패턴·컨투어 데이터 생성
- 전통 수치해석 대비 100배 이상 빠른 물리정보 AI 시뮬레이션
- 재학습 없이 다양한 공정조건의 패턴 변화 일괄 예측
- Hotspot 예측 및 공정 민감도 분석
- 가상 SEM 이미지 생성
독립적으로, 그리고 함께
공정 시뮬레이션과 현장 검사 결과를 결합하여 공정별 분석모델 구축과 반복적인 검사·계측 셋업 부담을 줄이는 것을 목표로 합니다.
- Mask Layout 및 공정조건 입력
- NeuroSim-Litho를 통한 패턴·컨투어 예측
- 시뮬레이션 결과 및 생성데이터 구축
- NeuroGauge-Semi의 정렬·세그멘테이션·컨투어 모델 학습 지원
- 현장 검사 이미지 기반 모델 보정 및 성능검증
넥스트엠아이의 차별점
-
시뮬레이션과 검사·계측의 결합
공정 시뮬레이션과 검사 이미지 분석을 별개의 기술로 다루지 않고 상호 연계하여 활용합니다.
-
반도체 공정 특화
범용 Vision AI가 아니라 반도체 공정과 검사장비의 특성을 반영한 기술을 개발합니다.
-
기존 환경 활용
장비를 대체하기보다, 현재 사용 중인 장비와 분석환경의 성능을 고도화하는 소프트웨어를 지향합니다.
-
데이터 구축 부담 완화
시뮬레이션 결과, Target/Mask Layout 및 현장 데이터를 결합하여 학습데이터 구축과 모델 보정 부담을 줄입니다.
-
모듈형 기술 구성
복원, 정렬, 세그멘테이션, 컨투어 추출, 계측 및 이상 탐지를 고객의 문제에 맞게 선택 적용합니다.